FIB: Spezifikationen
Gerätespezifikationen
| Gerätetyp: | FEI Helios NanoLab™ 600 |
| Gerätebezeichnung: | DualBeam™ FIB/SEM |
| Emittertyp (SEM): | Schottky-Feldemitter |
| Ionenart (FIB): | Gallium-Ionen |
| Auflösung: | |
| Bei optimalem Arbeitsabstand: | 0.9 nm @ 15 kV (SEM) |
| Im Strahlenkoinzidenzpunkt: | 1.0 nm @ 15 kV (SEM), Arbeitsabstand 4 mm 5 nm @ 30 kV (FIB), Arbeitsabstand 16.5 mm |
| Beschleunigungsspannung: | 350V bis 30 kV (SEM) 500V bis 30 kV (FIB) |
| Strahlstrom: | bis 20 nA (FIB, SEM) |
| Installierte Detektoren: |
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| Gasinjektionsysteme: |
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| Metalldeposition: | Platin |
| Isolatordeposition: | Tetraethylorthosilikat |
| Mikro-Manipulationseinheit: | Omniprobe 100.7 |
| Maximale Probengröße (BxLxH): | ca. 30 x 50 x 4 mm3 (horizontaler Einbau) |
