Zusätzlich gestattet dieses Gerät die Deposition von Platin, als leitendes Material, und Siliziumoxid, als isolierendes Material. Die Platindeposition, die sowohl mit dem Ionenstrahl als auch mit dem Elektronenstrahl erfolgen kann, wird dazu genutzt in die Probe strukturierte Messgeometrien (siehe z.B. Abb. 1 rechts) zu kontaktieren oder um die Probe bei der Herstellung zum Beispiel einer Lamelle für die Transmissionselektronenmikroskopie (TEM) vor Strahlenschäden, die durch den Ionenstrahl verursacht werden, zu schützen. Abbildung 2 zeigt einige Platinleiterbahnen unterschiedlicher Breite, die mit diesem Verfahren abgeschieden wurden.

Abbildung 1: Mit einem Elektronenstrahl abgeschiedene Platinbahnen.