Ausstattung
Raster-Elektronen-Mikroskopie
Das Labor für Elektronenmikroskopie besitzt Elektronenmikroskope mit Beschleunigungsspannungen zwischen 0.05 kV und 30 kV und einer Auflösung bis 1.2 nm.
Rastersonden-Mikroskopie
Rastersonden-Mikroskopie
In der Rastersonden-Mikroskopie werden derzeit zwei Rasterkraft- Mikroskope mit einer Ortsauflösung von 15 nm und folgenden Techniken eingesetzt:
- Topografiemessungen (Kontakt-, Nichtkontakt- und Tapping-Modus)
- Kelvin-Probe-Force-Mikroskopie
- Lokale Potenzial-, Spannungs-, und Strommessungen Auflösung: einige µA, 5mV
- Magnetkraftmikroskopie
Nanotechnologie und Präparation
Der Lehrstuhl verfügt über einen modern ausgestatteten 120 m² großen Reinraum der Klassen 100 und 1000. Folgende Geräte gehören zur Reinraumausstattung:
- Elektronenstrahl-Lithographieanlage
- Aufdampfanlage mit thermischer Verdampfung und Elektronenstrahlverdampfung,
Sputteranlage - Maskenjustiergerät, Photolackschleuder
- Ultraschallbonder, Vakuumofen, Ausheilofen, Rohrofen, Ozonreiniger
- Geräte zum Dispergieren von Nanopartikeln (Tip Sonicator, Zentrifuge)
- Spitzenmessplätze
Optische Spektroskopie
Mehrere Laser-Labore stehen für unterschiedliche Techniken der optischen Spektroskopie zur Verfügung. Der Fokus liegt auf hochorts- und zeitaufgelösten Experimenten im Temperaturbereich von 2 K – 300 K, teilweise unter Einwirkung stationärer und transienter externer Felder (Magnetfeld, elektrisches Feld). Schwerpunkte bilden die folgenden Messtechniken:
- Zeit- und ortsaufgelöste Photolumineszenz-Spektroskopie (~ ps, < µm)
- Transiente Absorptionsspektroskopie
- g(2)-Korrelationsmessungen (Photonenstatistik)
- Magnetooptik (ortsaufgelöste Magnetolumineszenz, MCD
- Mikro-Photolumineszenz/Mikro-Elektrolumineszenz-Spektroskopie
- Hochortsaufgelöste Photostrom- / Photospannungs-Messungen (< µm)
- UV-VIS-Spektrophotometer, Photodioden zur Messung externer Quantenausbeute