REM Zeiss
Raster-Elektronenmikroskopie (REM)
Zeiss LEO 1530
- Feldemissions Kanone (FEG)
- Bis zu 30 kV Beschleunigungsspannung
- Wassergekühltes Linsensystem
- Laterale Auflösung 1.2nm
- Druck am Probenort: 10-6 mbar
- Maximale Probendurchmesser: 50 mm
Detektoren
- In-lens Detektor
- SE2 Sekundärelektronen-Detektor
- Robinson backscatter Detektor
- Strukturelle Untersuchungen mit Oxford Instruments Nordlys EBSD Detektor
- Bestimmung der chemischen Zusammensetzung mit Oxford Instruments XMAX 80mm² EDX Detektor
Kontakt:
U. Wiedwald
D. Spoddig
Elektronenstrahllithographie (EBL)
Raith ELPHY Plus System
- Min. Linienbreite: 25nm
- Maximale Schreibfeld: 4000²µm²
- Schrittweite: 3nm @ 200µm
- Verschiedene positive und negative Elektronenstrahl Fotolacke
- Fotolacke mit Dicken bis zu 1000nm